vaisala半导体折光仪 PR-33-S探头用于测量中晶圆厂化学品的浓度

vaisala半导体折光仪 PR-33-S探头

紧凑型折光仪，采用超纯改性PTFE流通池主体，适用于半导体液体化学过程。通过 1/4 — 1 英寸的立柱或扩口接头连接

到工艺。

vaisala K-PATENTS® 半导体折光仪 PR-33-S 可监测洁净室环境和集成工艺工具（混合、清洁、蚀刻和 CMP）中晶

圆厂化学品的浓度。

设计

PR-33-S 由一个超纯的改性 PTFE 流通池主体和一根以太网电缆组成，任何标准 PoE（以太网供电）交换机都可以使用

该电缆将电力传输到传感器并将数据传输到计算机。PR-33-S 实时监测化学品浓度，并在化学品超出规格时提供以太网

输出信号和即时反馈。例如，可以配置低浓度和高浓度警报来控制和延长浴槽寿命。浓度是通过对溶液的折射率nD和

温度进行光学测量来确定的。

PR-33-S 直接与喇叭口或支柱配件在线安装。PR-33-S 结构紧凑，不含金属，占用空间很小。

关键要素

N.I.S.T. 可溯源校准，使用标准 RI 液体进行验证，并经过验证的程序。

获得CORE光学器件（美国号）US6067151）。

通过以太网的远程面板，用于数据记录和远程操作。

通信由标准 UDP/IP 协议构建。

过程温度范围：-20°C – 85°C （-4°F – 185°F）。

通过内置 Pt1000 和自动数字温度补偿实现快速过程温度测量。

主要优势

全数字化设备

vaisala  K-PATENTS® 半导体折光仪 PR-33-S 用于过程控制和监测，并提供连续的以太网输出信号。设计紧凑，

设备直接在线安装。

在整个范围内进行准确稳定的测量

折射率 nD 1.3200–1.5300 的全测量范围，相当于 0-100% 重量。可选范围 nD 1.2600–1.4700 用于强 HF。 

典型精度 R.I.+ 0.0002，通常相当于 0.1%（重量），例如水中的 HCl。

测量不受 PPM 范围内的颗粒、气泡、湍流或杂质的影响。

易于维护

无漂移。无需重新校准。无需机械调整。

技术数据

折射率范围 1.3200...1.5300

准确度 ± 0.1%

响应时间 1s

工艺温度 -20°C (-4°F)...85°C (185°F) 

环境温度：-20°C (-4°F)...45°C (113°F)

保护等级 IP67

重量 1.2 kg 

消耗功率  1W

vaisala半导体折光仪 PR-33-S探头